7月14日，上海万业企业股份有限公司(股票代码：600641.SH)发布了2023年上半年的业绩预告。据公告表示，预计万业企业在2023年上半年的净利润将达到约1.18亿元，较去年同期增加约8963万元，同比增长率约316%。此外，扣除非经常性损益后的净利润预计为约2450万元，同比增长率约0.14%。
旗下凯世通、嘉芯双重助力万业高质量发展
万业企业旗下凯世通是国内领先的中高端集成电路离子注入机装备企业，凭借强劲发展势能，正在成长为国产第一梯队核心设备厂商。目前，凯世通产品已覆盖逻辑、存储、功率等多个应用领域方向，是国内首家集成电路离子注入机低能大束流和高能离子注入机获得验证验收的设备企业。
另外万业集成电路前道装备另一核心子公司，嘉芯半导体产品覆盖刻蚀、薄膜沉积、快速热处理、Local Scrubber、真空泵等多个品类。公司成立仅一年多时间就已快速组建团队、获取订单并开启交付进程，一举成为本土半导体核心装备新锐企业之一。
在近日举办的全球半导体和电子行业年度盛会 SEMICON China 2023中，凯世通和嘉芯半导体的集成电路前道设备产品受到了参会嘉宾高度的关注与肯定。
“1+N”平台化发展打开成长空间
2023年，万业企业进一步推进战略重心不断向半导体产业转移，横向拓展薄膜沉积、刻蚀、离子注入等晶圆厂的设备环节，实现“1+N”平台化发展，
在半导体业务方面，凯世通和嘉芯半导体持续与集成电路芯片制造厂客户对接。作为国内首个获得验证验收的国产集成电路离子注入机低能大束流和高能离子注入机供应商，凯世通一直处于相关系列产品的领先地位，并逐步迈向国产第一梯队核心设备厂商。目前凯世通覆盖了逻辑、存储、功率等多个应用领域方向和多个主流的供应厂商。
与此同时，嘉芯半导体陆续向市场推出系列多元化的设备产品，并形成商业订单。具体包含氮化硅等离子刻蚀机、金属等离子刻蚀机、侧墙等离子刻蚀机、高密度等离子薄膜沉积设备(HDP-CVD)、二氧化硅等离子薄膜沉积设备(PECVD)、掺杂硼磷二氧化硅薄膜化学沉积设备(SACVD)、钛/氮化钛沉积设备(MOCVD)、铝铜金属溅射设备(PVD)、快速热处理(RTP)和双燃烧+双水洗尾气处理设备等，可为客户提供一站式解决方案。
在未来发展战略方面，万业企业表示，将锚定聚焦半导体设备业务领域，完善产业链布局，并以“1+N”设备平台化战略为抓手，持续加大对技术研发的资金投入和专业人才的吸纳引进，茁长根基发展韧性，实现稳健经营，为集成电路设备制造国产化贡献力量。
