芯片制造重大突破!ASML确认1.5nm工艺制程!

2018-05-24 15:44:28 来源:综合开发研究院

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摩尔定律出现重大突破。外资摩根大通最新报告表示,半导体设备厂ASML确认1.5nm制程的发展性,支撑摩尔定律延续至2030年!

重量级分析师一致预期,台积电与三星新一轮军备竞赛将开打,并以制程领先的台积电胜算较大。

芯片制造重大突破!ASML确认1.5nm工艺制程!

摩尔定律是指半导体制程每18个月,就会推进一个世代。由于晶体管愈做愈小、电路线宽愈来愈窄,几乎已达到物理极限,一度引起业界忧心半导体先进制程将面临无法继续升级的问题。

摩根大通科技产业研究部主管哈戈谷指出,ASML更坚定摩尔定律可延伸至1.5纳米,支持半导体产业至少发展至2030年。

芯片制造重大突破!ASML确认1.5nm工艺制程!

此外,ASML将在3纳米与更先进制程采用高数值孔径(NA)光学系统;过去艾斯摩尔为发展NA系统,收购德国卡尔蔡司子公司蔡司半导体。如今外资圈消息进一步证实,ASML将拓展3纳米以下技术。

芯片制造重大突破!ASML确认1.5nm工艺制程!

异康集团暨青兴资本首席顾问杨应超解读,ASML技术进展是半导体业一大突破,有利整个大产业。而在7纳米制程已开打军备竞赛的台积电和三星,战况将更激烈。

Substance Capital合伙人暨基金经理人陈慧明指出,台积电能维持产业龙头地位,靠的是制程不断进步,因此ASML开展1.5纳米制程,不仅有利台积电巩固优势,“对第一名最有利”,也缓解市场担忧。

台积电规划,导入极紫外光(EUV)的7纳米强化版会于明年量产;全数采用极紫光外光的5纳米,则会在2020年量产。

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责任编辑:ERM523